東京応化工業株式会社
基本情報
- 読み
- とうきょうおうかこうぎょう
- 上場区分
- プライム市場
- 本社所在地
- 神奈川県川崎市中原区中丸子150
- 設立
- 1940年10月25日
- 業種
- 化学メーカー
- 資本金
- 146億4,000万円
- 売上高
- 2009億6600万円（2024年12月期）
- 従業員数
- 1,996名(連結)
事業内容・特徴
事業概要
東京応化工業(TOK)は、半導体製造に不可欠なフォトレジストを主力製品とする化学メーカーである。フォトレジストは、半導体やディスプレイの回路パターンを形成する際に使用される感光性材料で、微細加工技術の要となる。TOKは、世界トップクラスのフォトレジストメーカーとして、最先端の半導体製造プロセスに対応した製品を供給している。特に、EUV(極端紫外線)露光に対応したフォトレジストでは、世界でも数社しか製造できない高度な技術を持つ。また、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ向けのフォトレジスト、半導体製造用の高純度薬品なども手がけ、エレクトロニクス産業を幅広く支えている。近年は、半導体の微細化が進む中、より高精度なフォトレジストの開発に注力し、5nmや3nmといった最先端プロセスに対応した製品を提供している。海外売上比率が高く、台湾、韓国、中国など主要な半導体生産地に拠点を展開している。
業界での立ち位置
フォトレジスト市場では、JSR、信越化学工業と並ぶ世界トップクラスのメーカーである。特にEUV露光対応フォトレジストでは高い技術力を持ち、最先端半導体製造に不可欠な存在となっている。半導体の微細化が進む中、技術的な優位性を維持し続けることが競争力の源泉となっている。顧客は、TSMC、サムスン電子、インテルなど世界の主要半導体メーカーであり、グローバルな供給体制を構築している。半導体市場の成長に伴い、安定した需要が見込まれる。
強み
1. EUV露光対応フォトレジストで世界トップクラスの技術力とシェア 2. 半導体の微細化に対応した最先端製品の開発力 3. TSMC、サムスン電子など世界の主要半導体メーカーとの取引実績 4. 台湾、韓国、中国など主要半導体生産地への拠点展開 5. ディスプレイ向けフォトレジストや高純度薬品など、多様な製品ラインナップ
主なサービス・製品
半導体用フォトレジスト：ArF、KrF、i線、EUV対応レジスト ディスプレイ用フォトレジスト：液晶、有機EL向け 半導体製造用薬品：高純度現像液、洗浄液、剥離液 コーティング材料：絶縁材料、保護膜材料 インクジェット材料：有機ELディスプレイ用インク
主なグループ会社・関連会社
TOK Taiwan Co., Ltd.、TOK Korea Co., Ltd.、TOK America, Inc.など
最近の動向
生成AIやデータセンター向けの高性能半導体需要が急増しており、最先端フォトレジストの供給を拡大中。また、EUV露光技術の普及により、EUV対応レジストの需要が増加しており、生産能力を増強している。台湾TSMCとの取引が拡大しており、台湾での生産・供給体制を強化。さらに、次世代の2nm以下のプロセスに対応したフォトレジストの研究開発にも注力している。
働く人のデータ
- 平均年齢
- 40.9歳
- 平均勤続年数
- 17.1年
- 平均年間給与
- 865万円
この企業を一言で表すと
EUV対応フォトレジストで世界トップクラスの半導体材料メーカー。最先端技術で高評価。